北崎供應EBARA 荏原 G5-1200 A1-A4 燃燒式廢氣處理器
北崎供應EBARA 荏原 G5-1200 A1-A4 燃燒式廢氣處理器
G5 是一種燃燒式廢氣處理系統(tǒng)，能夠高效處理制造過程中使用的各種氣體。 可以一次處理多種氣體，并且可以高效處理通常難以處理的 PFC 氣體。 通過我們的副產(chǎn)品對策和根據(jù)要處理的氣體類型和數(shù)量按需（可變?nèi)剂瞎┳鱽斫档瓦\行成本。 它非常適合用于半導體、液晶面板、太陽能電池和 LED 等電子元件的制造、化學和材料制造商以及各種實驗室。 還提供*流量為 1,200 L/min 的大流量型。
| 型 | 單位 | G5-350 A1~A4/P1~P4 | G5-500 A1~A4/P1~P4 | G5-600 A1~A4/P1~P4 | G5-1200 A1~A4/P1~P4 |
| 加工方法 | 燃燒 + 濕式 | 燃燒 + 濕式 | 燃燒 + 濕式 | 燃燒 + 濕式 | |
| *進氣量 | 升/分鐘 | 350 | 500 | 600 | 1200 |
| 燃料 | 城市燃氣/丙烷氣選擇 | 城市燃氣/丙烷氣選擇 | 城市燃氣/丙烷氣選擇 | 城市燃氣/丙烷氣選擇 | |
| 大小 | 寬 x 深 x 高 mm | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 650 x 1,900 | 1,200 x 1,100 x 2,000 | 1,200 x 1,100 x 2,200 |
| 可處理氣體示例 |
工藝（庫）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 一般 清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蝕 刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。 |
工藝（庫）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 一般 清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蝕 刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。 |
工藝（庫）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 一般 清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蝕 刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。 |
工藝（庫）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 一般 清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蝕 刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 PFC CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。 |
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| 標準設備 | 除粉 vernas 刮刀 | 除粉 vernas 刮刀 | 除粉 vernas 刮刀 | 除粉 vernas 刮刀 | |
| 選擇 | 市政水和廢水消耗減少裝置 | 市政水和廢水消耗減少裝置 | 市政水和廢水消耗減少裝置 | 市政水和廢水消耗減少裝置 | |
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